| 摘要 |
본 발명은 결정 크기가 0.001∼200 ㎛인 침상형의 방사형 결정 응집체를 포함하는 치밀한 매트릭스를 포함하는 과립형 다결정 실리콘에 관한 것이다. 본 발명은 유동상 온도 900∼970℃에서 TCS 및 수소를 포함하고 TCS 함량이 20∼29 몰%인 기체 혼합물로부터 유동상 반응기에서 과립형 실리콘을 제조하는 단계, 하나 이상의 스크린 덱을 포함하는 스크린 시스템에서 얻은 과립형 실리콘을 적어도 2개 또는 2개보다 많은 스크린 분획으로 나누고, 분쇄 시스템에서 가장 작은 스크린 분획을 분쇄하여 100∼1500 ㎛의 크기 및 400∼900 ㎛ 범위의 질량 기준 중간값을 갖는 시드 입자를 형성하는 단계, 상기 시드 입자를 유동상 반응기(1)에 공급하는 단계, 및 추가 스크린 분획을 유동상 반응기(4)에 공급하는 단계, 및 유동상 온도 870∼990℃에서 TCS 및 수소를 포함하고 TCS 함량이 5.1 내지 10 몰% 미만인 기체 혼합물로 표면처리하는 단계를 포함하는, 과립형 다결정 실리콘의 제조 방법에 관한 것이다. |
