| 摘要 |
<p>본 발명은 볼록도가 0.850∼1.000이고 염소 함량이 10∼40 ppmw인 과립형 다결정 실리콘에 관한 것이다. 본 발명은 유동상 반응기에서 과립형 다결정 실리콘을 제조하는 방법으로서, 가열 장치에 의해 가열되는 유동상 내 기체 유동에 의해 실리콘 시드 입자를 유동화시키는 단계, 규소-함유 및 할로겐-함유 반응 기체를 첨가하여 열분해에 의해 고온의 시드 입자 표면 상에 원소 규소를 침착시키는 단계, 침착의 결과로 직경이 성장한 입자 및 할로겐화수소를 포함하는 오프가스를 반응기로부터 제거함으로써 과립형 다결정 실리콘을 형성하는 단계 및 새로운 시드 입자를 계량 첨가하는 단계를 포함하고, 오프가스 내 할로겐화수소의 농도가 제어된 변수로서 결정되고, 가동 동안 상기 결정된 범위에서 오프가스 내 할로겐화수소 농도를 유지시키기 위해 새로운 시드 입자의 계량 첨가 속도 및 가열 장치의 가열 산출량이 조작된 변수로서 제어되는 것을 특징으로 하고, 과립형 다결정 실리콘은 볼록도가 0.850∼1.000인 입자를 포함하는 것을 추가의 특징으로 하는 방법에 관한 것이다.</p> |
