摘要 |
<p>본 발명의 일태양의 묘화 데이터의 검사 방법은, 하전 입자빔을 이용하여 시료에 복수의 도형 패턴을 묘화할 시의 도스량을 변조하기 위한 변조율 데이터와 복수의 도형 패턴이 정의된 레이아웃 데이터를 이용하여, 도스량을 변조하는 변조율마다 시료에 묘화되는 도형 패턴의 면적 맵을 작성하고, 레이아웃 데이터를 묘화 장치에 입력하기 위한 묘화 데이터로 데이터 변환하고, 면적 맵을 이용하여, 묘화 데이터를 이용하여 시료에 패턴을 묘화할 시의 소정의 영역마다의 전하량을 검사하는 것을 특징으로 한다.</p> |