| 摘要 |
<p>スパッタリングチャンバ上に連続して設置されるように設計される細いスパッタリングソースおよびターゲットを提供する。細いスパッタリングソースのそれぞれは、スパッタリングゾーンの１方向を横断するには十分な長さを有するが、スパッタリングゾーンの直交する方向よりきわめて細い。スパッタリングチャンバが通過スパッタリング処理をおこなうとき、細いスパッタリングソースのそれぞれは、基板の進行方向に直交する方向においてスパッタリングゾーンを横断するためには十分に長いが、基板の進行方向においてはスパッタリングゾーンよりもきわめて細い。いくつかの細いスパッタリングソースが、あらゆる方向においてスパッタリングゾーン全体を横断するように設置される。【選択図】図3Ｂ</p> |
