| 摘要 |
<p>Ein Verfahren zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten (2) mit einem topometrischen Messverfahren mittels Projektion mindestens eines Musters auf ein Objekt (2) mit einem Mustergenerator (7) und Aufnehmen mindestens einer Abbildung des Objektes (2) mit dem aufprojizierten Muster mit mindestens einer Bildaufnahmeeinheit (5) zur topometrischen Vermessung des Objektes (2) wird beschrieben. Das Verfahren hat die Schritte: a) Ermitteln von Teilflächen (15) in mindestens einer Abbildung je beteiligter Bildaufnahmeeinheit (5) des Objektes (2), die ein von dem Objekt (2) rückgestreutes Signal eines jeweils auf das Objekt (2) projizierten Projektionsmuster-Segmentes (14) des Mustergenerators (7) enthalten, b) Erstellen von mindestens einer Projektionsmaske (Mi; i ∊ N/{0})), welche jeweils mindestens ein Projektionsmuster-Segment (14) umfasst, wobei die Projektionsmuster-Segmente (14) einer Projektionsmaske (Mi) so ausgewählt sind, dass sich die ermittelten Teilflächen (15) der Projektionsmuster-Segmente (14) in der mindestens einen Abbildung je beteiligter Bildaufnahmeeinheit (5) nicht gegenseitig überlappen, und c) Durchführen der topometrischen Vermessung des Objektes (2) jeweils durch Projektion mindestens eines Musters mittels der mindestens einen erstellten Projektionsmaske (Mi; i ∊ N/{0}).</p> |
