一种外延片的形成方法及外延片

摘要

本发明提出一种外延片的形成方法及外延片。该方法包括：检测外延片在未经应力补偿下的内应力类型；提供第一材料衬底层；根据检测的内应力类型选择淀积工艺和/或淀积材料；根据选择的淀积工艺和/或淀积材料确定淀积材料的厚度；根据选择的所述淀积工艺、淀积材料和确定的所述淀积材料的厚度在所述第一材料衬底层的第二表面之上形成应力补偿层；和在第一材料衬底的第一表面之上形成第二材料层。通过本发明实施例可以使得由于应力补偿层与第一材料衬底层热失配应力差所产生的弯曲曲率半径正好与由于第二材料层与第一材料衬底层热失配应力差所产生的弯曲曲率半径相抵消。

主权项

一种外延片的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：检测所述外延片在未经应力补偿下的内应力类型；提供第一材料衬底层，所述第一材料衬底层具有第一表面和第二表面；根据检测的所述内应力类型选择淀积工艺类型和/或淀积材料；根据选择的所述淀积工艺类型和/或淀积材料确定所述淀积材料的厚度；根据选择的所述淀积工艺类型、淀积材料和确定的所述淀积材料的厚度在所述第一材料衬底层的第二表面之上形成应力补偿层；和在所述第一材料衬底的第一表面之上形成与所述第一材料异质的第二材料层，其中，所述检测外延片在未经应力补偿下的内应力类型具体包括以下步骤：提供所述第一材料衬底层；在所述第一材料衬底层之上形成所述第二材料层；检测所述第一材料衬底层和所述第二材料层产生弯曲的曲率半径；和根据所述曲率半径确定所述外延片在未经应力补偿下的内应力类型，其中，产生压应力的淀积工艺包括溅射和化学气相淀积CVD，产生拉应力的淀积工艺包括蒸镀、电镀和化学镀。