COMPOSITION FOR HARDMASK, METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERNS

摘要

하기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체 및 용매를 포함하는 하드마스크 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 그리고 상기 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스에 관한 것이다. [화학식 1][화학식 2](상기 화학식 1 및 2에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)