发明名称 |
光学层叠体的制造方法 |
摘要 |
本发明涉及光学层叠体的制造方法。提供外观优异的偏光膜的制造方法。本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法包括以下工序:将具有树脂基材和形成于该树脂基材的单侧的聚乙烯醇系树脂层的层叠体进行拉伸和染色,从而在该树脂基材上制作偏光膜的工序;使上述层叠体浸渍于包含碘化物的清洗液进行清洗的工序;以及,去除清洗液,使得上述层叠体的树脂基材侧表面上的清洗液的附着量为0.005g/m<sup>2</sup>以下,然后将上述层叠体干燥的工序。 |
申请公布号 |
CN104730611A |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201410822343.6 |
申请日期 |
2014.12.24 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
池岛健太郎;后藤周作;中野勇树;山本佳史;宫武稔;渡边康允 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种制造方法,其为在树脂基材上层叠有偏光膜的光学层叠体的制造方法,所述制造方法包括以下工序:将具有树脂基材和形成于该树脂基材的单侧的聚乙烯醇系树脂层的层叠体进行拉伸和染色,从而在该树脂基材上制作偏光膜的工序;使所述层叠体浸渍于包含碘化物的清洗液进行清洗的工序;以及去除清洗液,使得所述层叠体的树脂基材侧表面上的清洗液的附着量为0.005g/m<sup>2</sup>以下,然后将所述层叠体干燥的工序。 |
地址 |
日本大阪府 |