发明名称 光折射结构及制作方法、彩膜基板及制作方法、显示装置
摘要 本发明公开了一种光折射结构及制作方法、彩膜基板及制作方法、显示装置。其中,该光折射结构制作方法包括:在衬底基板上形成多个相互平行的遮光条纹;在相邻遮光条纹之间形成由透明材料构成的凸起物,其中,所述凸起物能够将从所述衬底基板中透射出的光线向靠近所述遮光条纹的方向折射出去。通过本发明,达到了提高双视角显示器件的侧视角和亮度的效果。
申请公布号 CN104730604A 申请公布日期 2015.06.24
申请号 CN201510190674.7 申请日期 2015.04.21
申请人 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 郭远辉;臧远生;王辉;王春
分类号 G02B5/00(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/00(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 许静;黄灿
主权项 一种光折射结构,其特征在于,包括:衬底基板、设置在所述衬底基板上的多个相互平行的遮光条纹,以及设置在相邻遮光条纹之间的凸起物,所述凸起物的材料为透明材料,所述凸起物能够将从所述衬底基板中透射出的光线向靠近所述遮光条纹的方向折射出去。
地址 230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号