发明名称 | 用于制作磁性介质和其他结构的嵌入式掩模图案化处理 | ||
摘要 | 在一些实例中,一种方法包括:在基板上沉积功能层(例如,磁性层);在功能层上沉积粒状层,该粒状层包括限定多个晶粒的第一材料,通过限定多个晶粒的晶界的第二材料分开该多个晶粒;从粒状层移除第二材料,使得粒状层的多个晶粒在功能层上限定硬掩模层;以及移除功能层的没有被硬掩模层掩蔽的部分,其中,在真空环境中执行沉积功能层、沉积粒状层、移除第二材料以及移除功能层的一部分。 | ||
申请公布号 | CN104737230A | 申请公布日期 | 2015.06.24 |
申请号 | CN201380054792.4 | 申请日期 | 2013.08.21 |
申请人 | 明尼苏达大学董事会 | 发明人 | 王建平;王昊;赵海豹 |
分类号 | G11B5/855(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/855(2006.01)I |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 梁丽超;陈鹏 |
主权项 | 一种方法,包括:在基板上沉积功能层;在所述功能层上沉积粒状层,所述粒状层包括限定多个晶粒的第一材料,通过限定所述多个晶粒的晶界的第二材料分开所述多个晶粒;从所述粒状层移除所述第二材料,使得所述粒状层的所述多个晶粒在所述功能层上限定硬掩模层;以及移除所述功能层的没有被所述硬掩模层掩蔽的部分,其中,在真空环境中执行沉积所述功能层、沉积所述粒状层、移除所述第二材料以及移除所述功能层的一部分。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |