发明名称 |
倒装LED芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明揭示了一种倒装LED芯片及其制造方法。包括提供包括衬底,形成于所述衬底上的N型氮化镓层、量子阱层和P型氮化镓层的前端结构;在前端结构上形成有欧姆接触层、反射镜介质层及反射镜金属层,然后形成连接N型氮化镓层的第一电极和连接反射镜金属层的第二电极。在本发明提供的倒装LED芯片中,在氮化镓与反射镜介质层全反射角外的入射光线可完成全反射,降低了反射镜对光的吸收比例,同时提高了反射镜全入射角度的平均反射率,提高了芯片的出光效率,提升了LED芯片的光电转换效率。 |
申请公布号 |
CN104733572A |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201510144432.4 |
申请日期 |
2015.03.30 |
申请人 |
映瑞光电科技(上海)有限公司 |
发明人 |
李智勇;徐慧文;李起鸣;张宇 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/60(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种倒装LED芯片的制造方法,包括:提供前端结构,所述前端结构包括衬底,依次形成于所述衬底上的N型氮化镓层、量子阱层和P型氮化镓层;在所述前端结构表面上形成欧姆接触层,并进行图案化,暴露出所述P型氮化镓层;在所述欧姆接触层上形成反射镜介质层,并进行图案化,暴露出所述P型氮化镓层和部分欧姆接触层;形成反射镜金属层,所述反射镜金属层覆盖所述反射镜介质层和暴露出的欧姆接触层;刻蚀暴露出的P型氮化镓层、量子阱层形成第一电极接触孔;以及在所述第一电极接触孔中形成第一电极,在覆盖暴露出的欧姆接触层的反射镜金属层上形成第二电极。 |
地址 |
201306 上海市浦东新区临港产业区鸿音路1889号 |