发明名称 |
一种晶片表面金属剥离系统 |
摘要 |
一种晶片表面金属剥离系统,用以剥离晶片表面的金属,该系统由工作区和上下片区组成,其特征在于:所述工作区由接触式剥离装置、高压去除装置、机械手,所述接触式剥离装置,由进膜卷、下压重块、载台、导轨、出膜卷组成;所述高压去除装置,由高压流体管路、吹气管路、旋转载台、晶片固定装置、回收装置组成。所述上下片区包含至少一个载片框。采用本实用新型提供的系统,能实现全自动作业,提高了金属剥离效率,减少了人力消耗。 |
申请公布号 |
CN204424227U |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201520114206.7 |
申请日期 |
2015.02.17 |
申请人 |
天津三安光电有限公司 |
发明人 |
魏家举;程亚亚;杨硕;张维;付华兴;王笃祥 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;G03F7/34(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种晶片表面金属剥离系统,包括上下片区、工作区和机械手,其特征在于:所述工作区包含接触式剥离装置、冲洗去除装置,通过机械手取片、下片,将上下片区的晶片依次送到接触式剥离装置和冲洗去除装置上作业。 |
地址 |
300384 天津市西青区华苑产业区海泰南道20号 |