| 摘要 |
프로세스 챔버에 열 에너지를 제공하기 위한 장치가 본원에서 제공된다. 장치는, 프로세스 챔버의 프로세스 챔버 본체, 프로세스 챔버 본체에 배치된 타겟 컴포넌트를 가열하기 위해서 프로세스 챔버에 열 에너지를 제공하도록, 복수의 고체 상태 소스들을 갖는, 제 1 기판 상에 배치된 고체 상태 소스 어레이, 및 복수의 고체 상태 소스들 중 하나 또는 그 초과의 소스들에 의해서 제공된 열 에너지를 타겟 컴포넌트를 향하여 지향시키도록, 복수의 고체 상태 소스들 중 하나 또는 그 초과의 소스들에 근접하여, 제 1 기판 상에 배치된 적어도 하나의 반사기를 포함할 수 있다. |
