| 发明名称 | 沉积无氟/碳保形钨的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供使用含钨反应气体沉积钨膜或含钨膜的原子层沉积方法，所述含钨反应气体包含以下的一或多种：五氯化钨、具有经验式WCl<sub>5</sub>或WCl<sub>6</sub>的化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN104737275A | 申请公布日期 | 2015.06.24 |
| 申请号 | CN201380054229.7 | 申请日期 | 2013.10.25 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 傅新宇;斯里尼瓦斯·甘迪科塔;阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯;阿蒂夫·努里;张镁;戴维·汤普森;史蒂夫·G·加奈耶姆 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;赵静 |
| 主权项 | 一种处理方法，包含以下步骤：将基板顺序地暴露至第一反应气体及第二反应气体以形成含钨膜，所述第一反应气体包含含钨化合物，所述含钨化合物包含具有经验式W<sub>x</sub>Cl<sub>5x</sub>的化合物。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||