发明名称 大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法
摘要 一种用于涂布光刻胶的基板上制备衍射光栅的大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法,装置由激光器、电子快门、第一半波片、偏振分光镜、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、第一空间滤波器、第一矩形光阑、第一离轴抛物面大反射镜、压电陶瓷、第三反射镜、第二空间滤波器、第二矩形光阑、第二离轴抛物面大反射镜、基板、小参考光栅、接受屏、CCD和计算机组成,本发明采用单频稳频的半导体激光器或激光二极管泵浦固体激光器能提供更高的连续功率或平均功率,使曝光时间大为减少,降低系统对环境稳定性的要求,基底可以使用膨胀系数较小或轻质的材料,具有成像质量高、无像差、制备衍射光栅的口径大、使用方便、价格便宜等优点。
申请公布号 CN104730868A 申请公布日期 2015.06.24
申请号 CN201510133314.3 申请日期 2015.03.25
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 徐文东;阮昊;苏雅茹
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯;张宁展
主权项 一种用于涂布光刻胶的基板上制备衍射光栅的大口径衍射光栅曝光装置,其特征在于该装置由激光器(1)、电子快门(2)、第一半波片(3)、偏振分光镜(4)、第二半波片(5)、第一反射镜(6)、第二反射镜(7)、第一空间滤波器(8)、第一矩形光阑(9)、第一离轴抛物面大反射镜(10)、压电陶瓷(11)、第三反射镜(12)、第二空间滤波器(13)、第二矩形光阑(14)、第二离轴抛物面大反射镜(15)、基板(16)、小参考光栅(17)、接受屏(18)、CCD(19)和计算机(20)组成,上述元部件的位置关系如下:所述的激光器(1)发出竖直偏振的激光依次经所述的电子快门(2)、第一半波片(3)后被偏振分光镜(4)分为左右两束光,所述的左光束依次经所述的第二反射镜(7)、第一空间滤波器(8)、第一矩形光阑(9)和第一离轴抛物面大反射镜(10),形成左大口径矩形截面准直光;所述的右光束依次经所述的第二半波片(5)、第一反射镜(6)、第三反射镜(12)、第二空间滤波器(13)、第二矩形光阑(14)和第二离轴抛物面大反射镜(15),形成右大口径矩形截面准直光,左右两束大口径矩形截面准直光对称地照射在所述的基板(16)上,形成双光束曝光,所述的参考光栅(17)置于所述的基板前下方并固定在光学台上,该小参考光栅(17)的干涉条纹由所述的接受屏(18)接收,经所述的CCD(19)探测并送所述的计算机(20),所述的计算机(20)的输出端与所述的压电陶瓷(11)的控制端相连,在曝光过程中,入射到参考光栅(17)上的两束光在接受屏(18)上形成干涉条纹,由CCD(19)记录并传输到计算机(20)上,计算机(20)根据位相的变化来控制所述的压电陶瓷(11),驱动所述的第三反射镜(12)进行条纹锁定。
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