Method for measuring the spatial resolution of an X-ray imaging system, test chart and its manufacturing method

摘要

L'invention concerne les mires de résolution pour l'analyse de la résolution de systèmes de tomographie par rayons X. La mire comprend un substrat portant des zones absorbantes pour les rayons X, dont les largeurs et les espacements sont choisis pour permettre une mesure de la résolution du système. Pour éviter des effets d'ombrage lorsque le faisceau d'illumination X est divergent et lorsque les zones absorbantes ont un rapport hauteur/largeur élevé (de 2 à 5 par exemple), les zones absorbantes dans les divers points du motif ont une forme dont une direction générale d'élévation par rapport à la surface du substrat est tournée vers un point de convergence (O) qui est le même pour toutes les zones absorbantes. La source de rayons X sera placée en ce point de convergence, ce qui élimine les effets d'ombrage. L'élévation oblique peut être obtenue par des étapes de gravure spécifiques ou par courbure du substrat après fabrication des motifs absorbants, ou encore par l'utilisation de deux mires partielles superposées.