发明名称 基板处理装置
摘要 本发明是一种基板处理装置,该基板托盘具备托盘本体,和包含支撑基板的基板支撑部的基板支撑板,托盘本体包含基板保持部和磁铁,该基板保持部以基板应处理的部分露出的方式保持上述基板的周端部该磁铁以通过磁力上述托盘本体保持上述基板支撑板的方式被配置在上述基板保持部的外侧,基板托盘经由密封构件,通过托盘保持器保持。
申请公布号 CN104737283A 申请公布日期 2015.06.24
申请号 CN201380055343.1 申请日期 2013.05.31
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 户田哲郎;大坂知子;齐藤孝之;田中洋;高城信二
分类号 H01L21/683(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I 主分类号 H01L21/683(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王诣然
主权项 一种基板处理装置,具有:处理室、托盘保持器、气体导入部气体导入部和排气部,上述托盘保持器用于对保持基板的基板托盘进行保持,上述气体导入部用于将工艺气体导入上述处理室内,上述排气部用于对上述处理室内进行排气,上述基板处理装置用于对上述基板进行处理,其特征在于,上述基板托盘具备托盘本体和包含支撑上述基板的基板支撑部的基板支撑板,上述托盘本体包含基板保持部和磁铁,上述基板保持部以上述基板应处理的部分露出的方式保持上述基板的周端部,上述磁铁以上述托盘本体通过磁力保持上述基板支撑板的方式被配置在上述基板保持部的外侧,上述基板托盘经由密封构件通过上述托盘保持器保持。
地址 日本神奈川
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