| 发明名称 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 |
| 摘要 |
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin having (A) a repeating unit represented by a specific formula (I) and (B) a repeating unit capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation. |
| 申请公布号 |
JP5740168(B2) |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
| 申请号 |
JP20110025505 |
申请日期 |
2011.02.08 |
| 申请人 |
富士フイルム株式会社 |
发明人 |
平野 修史;高橋 秀知;土村 智孝;川端 健志;椿 英明 |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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