| 发明名称 | 在热工艺中玻璃弯曲的避免 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于避免玻璃基质弯曲的多层体组件(1)，其包括：- 多层体(2)，其带有玻璃基质(30)、被施加在玻璃基质(30)的一侧上的功能性覆层(10)和平面地与玻璃基质(30)的背对功能性覆层(10)的侧面相连接的辅助层(20)；- 两个辐射器场(4)，其带有处于其间的处理平面，在其中布置多层体(2)，以在250nm至4000nm的波长范围中射入到玻璃基质30上的辐射功率P<sub>ges</sub>用于功能性覆层(10)的热处理，其中，辅助层(20)具有射入的辐射功率P<sub>ges</sub>的10%至60%的所吸收的辐射功率P<sub>20</sub>。 | ||
| 申请公布号 | CN104737301A | 申请公布日期 | 2015.06.24 |
| 申请号 | CN201380038408.1 | 申请日期 | 2013.07.18 |
| 申请人 | 法国圣戈班玻璃厂 | 发明人 | S.乔斯特;J.帕姆 |
| 分类号 | H01L31/032(2006.01)I;H01L31/0392(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/032(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 陈浩然;胡斌 |
| 主权项 | 一种用于避免玻璃基质弯曲的多层体组件(1)，其包括：‑ 多层体(2)，其带有玻璃基质(30)、被施加到所述玻璃基质(30)的一侧上的功能性覆层(10)和平面地与所述玻璃基质(30)的背对所述功能性覆层(10)的侧面相连接的辅助层(20)，‑ 两个辐射器场(4)，其带有处于其间的处理平面，在其中布置所述多层体(2)，以在250nm至4000nm的波长范围中射入到所述玻璃基质(30)上的辐射功率P<sub>ges</sub>用于所述功能性覆层(10)的热处理，其中，所述辅助层(20)具有射入的所述辐射功率P<sub>ges</sub>的10%至60%的所吸收的辐射功率P<sub>20</sub>。 | ||
| 地址 | 法国库伯瓦 | ||