发明名称 |
可视性改善的透明导电性膜及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及可视性(visibility)改善的透明导电性膜,详细地涉及,底涂层包含无机粒子而底涂层的折射率变高,从而能够改善图案可视性的透明导电性膜及其制备方法。本发明的透明导电性膜,底涂层的折射率比由溅射技术形成的硅氧化物层的折射率高且比透明导电层的折射率低,能够确保优秀的图案可视性,并能够由稳定的高速生产方法形成底涂层,还能确保宽度方向的厚度均匀度。 |
申请公布号 |
CN104737108A |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201380053707.2 |
申请日期 |
2013.10.15 |
申请人 |
乐金华奥斯有限公司 |
发明人 |
郑根;金仁淑;李敏熙;赵靖;金庚泽 |
分类号 |
G06F3/041(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/041(2006.01)I |
代理机构 |
北京品源专利代理有限公司 11332 |
代理人 |
吕琳;杨生平 |
主权项 |
一种透明导电性膜,其特征在于,包括:透明膜,底涂层,形成在所述透明膜上,导电层,形成在所述底涂层上;所述底涂层包含无机粒子;所述底涂层与透明膜的折射率之差为0.15至0.30。 |
地址 |
韩国首尔 |