基板定向腔室

摘要

提供用以在基板处理系统中测定基板的方向的定向腔室。在一些实施方式中，一种定向腔室包括包围内部空间的壳体；位于该壳体内部的可旋转台座，该可旋转台座包括基板支撑表面，该基板支撑表面适以支撑基板；位于该台座上方的光源，当基板被载至该可旋转台座上时，定位该光源以提供照明光至该基板的外周，其中来自该光源的该照明光从垂直线倾斜一角度朝向该基板的中心，该垂直线垂直于该基板支撑表面延伸；具有光接收表面的光接收单元，该光接收表面上设置多个光接收元件，多个光接收元件接收来自该光源的该照明光；和分析由光接收元件接收的照明光的分析单元。

主权项

一种定向腔室，包括：包围内部空间的壳体；可旋转台座，位于所述壳体内部，所述可旋转台座包括基板支撑表面，所述基板支撑表面适以支撑基板；光源，位于所述台座上方，当基板被载至所述可旋转台座上时，定位所述光源以提供照明光至所述基板的外周，其中来自所述光源的所述照明光从垂直线倾斜一角度朝向所述基板的中心，所述垂直线垂直于所述基板支撑表面延伸；光接收单元，具有光接收表面，所述光接收表面上设置多个光接收元件，所述多个光接收元件接收来自所述光源的所述照明光；和分析单元，所述分析单元分析由所述光接收元件接收的所述照明光。