发明名称 显示基板及其制造方法、显示装置
摘要 本发明实施例提供一种显示基板及其制造方法、显示装置,涉及显示技术领域。方法包括在基板上形成刻蚀阻挡层图形和第一电极图形的步骤,形成所述刻蚀阻挡层图形和第一电极图形的步骤包括:依次形成刻蚀阻挡层薄膜和第一电极薄膜,通过一次构图工艺形成刻蚀阻挡层图形和第一电极图形。本发明省去了刻蚀阻挡层图形单独形成的构图工艺,简化了工艺流程,节省了制作成本。本发明实施例用于制造显示装置。
申请公布号 CN104733384A 申请公布日期 2015.06.24
申请号 CN201510178332.3 申请日期 2013.08.22
申请人 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 段献学;白明基;徐德智;邹志翔
分类号 H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨
主权项 一种显示基板的制造方法,其特征在于,包括:步骤1、提供一基板,在所述基板上形成栅绝缘层和有源层的图形;步骤2、在完成步骤1的基板上依次形成刻蚀阻挡层薄膜和第一电极薄膜;步骤3、通过一次构图工艺形成刻蚀阻挡层图形和第一电极图形。
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