| 发明名称 | 一种在衬底中刻蚀特征的方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明，提供了一种在衬底中刻蚀特征的方法，该方法包括以下步骤：在所述衬底上形成掩膜结构，所述掩膜结构限定了至少一个凹陷开口；使用循环刻蚀沉积工艺穿过所述开口刻蚀所述衬底以形成所述特征；以及去除所述掩膜。 | ||
| 申请公布号 | CN104733304A | 申请公布日期 | 2015.06.24 |
| 申请号 | CN201410806198.2 | 申请日期 | 2014.12.22 |
| 申请人 | SPTS科技有限公司 | 发明人 | 海尤玛·阿什拉夫 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 归莹;张颖玲 |
| 主权项 | 一种在衬底中刻蚀特征的方法，包括以下步骤：在所述衬底上形成掩膜结构，所述掩膜结构限定了至少一个凹陷开口；使用循环刻蚀沉积工艺穿过所述开口刻蚀所述衬底以形成所述特征；以及去除所述掩膜。 | ||
| 地址 | 英国新港 | ||