一种成像设备的自动曝光控制方法及装置

摘要

本发明公开了一种成像设备的自动曝光控制方法及装置。本发明采用了两次曝光过程，并对预曝光图像进行处理，对受检部位组织区域的图像灰度值进行统计，将灰度均值与推荐值的比值作为计算二次曝光参数（mA值或者曝光时间值）的主要依据，同时利用灰度最大值和最小值对调整后的图像灰度范围进行限定，确保二次曝光能够获得较高质量的图像，同时能够降低受检者所受的X射线辐射。而且本发明采取了比信噪比更直接的图像灰度值统计量进行曝光参数估计，对于各种图像均可以获得较好的处理结果，提高了自动曝光控制的准确性。

主权项

一种成像设备的自动曝光控制方法，其特征在于，所述方法包括：控制单元配置预曝光参数并将所述预曝光参数发送至光信号发生器；所述光信号发生器根据所述预曝光参数产生预曝光光信号；光信号探测器根据所述预曝光光信号形成预曝光图像并将所述预曝光图像发送至所述控制单元；所述控制单元对所述预曝光图像进行处理，统计所述预曝光图像中组织区域的灰度值的最大值I_max、最小值I_min以及均值I_mean，计算预设的组织区域的灰度值的均值I_mean'与所述预曝光图像中组织区域的灰度值的均值I_mean的比值R1，并根据所述预设的组织区域的灰度值的最大值I_max'与所述预曝光图像中组织区域的灰度值的最大值I_max的比值和所述预设的组织区域的灰度值的最小值I_min'与所述预曝光图像中组织区域的灰度值的最小值I_min的比值修正所述比值R1为比值R2，根据所述比值R2确定二次曝光参数并发送所述二次曝光参数至光信号发生器；所述光信号发生器根据所述二次曝光参数产生二次曝光光信号；所述光信号探测器根据所述二次曝光光信号形成二次曝光图像并将所述二次曝光图像发送至所述控制单元；所述预曝光参数和所述二次曝光参数均至少包括所述光信号发生器的偏置电压、所述光信号发生器的管电流和所述光信号发生器的一次曝光持续时间；所述根据所述预设的组织区域的灰度值的最大值I_max'与所述预曝光图像中组织区域的灰度值的最大值I_max的比值和所述预设的组织区域的灰度值的最小值I_min'与所述预曝光图像中组织区域的灰度值的最小值I_min的比值修正所述比值R1为比值R2包括：若R1×I_max>I_max'或R1×I_min<I_min'，则调整R1为R2，其中R2×I_max<I_max'且R2×I_min>I_min'。