发明名称 センサ、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
摘要 【課題】結像の外乱を低減し、望ましくは最小限にするリソグラフィ装置で使用する改良型センサを提供する。【解決手段】液浸タイプのリソグラフィ装置で使用され、使用時に、液浸液(11)に接触するセンサ(100)は、センサのトランスデューサ(104)から温度調節デバイス(107)への第1の熱経路の熱抵抗が、トランスデューサから液浸液への第2の熱フロー経路の熱抵抗より小さくなるように構成されている。したがって、熱フローは優先的に温度調節デバイスへ向かい、液浸液へは向かわない。その結果、液浸液内で温度によって引き起こされる外乱は低減され又は最小限にされる。【選択図】図6
申请公布号 JP2015517739(A) 申请公布日期 2015.06.22
申请号 JP20150513050 申请日期 2013.03.19
申请人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 发明人 ローラン,ティボー,サイモン,マチュー;ヤコブス,ヨハネス,ヘンリカス,ウィルヘルムス;コック,ハイコ,ヴィクトール;ヴァン デ ファイフェル,ユリ,ヨハネス,ガブリエル;ファン デ ヴァル,ヨハネス,アントニウス,マリア;ナーレン,バスティアーン,アンドレアス,ウィルヘルムス,ヒューベルタス;フォグド,ロベルト ヤン;ヴェステラケン,ジャン,スティーヴン,クリスティアーン;ヴァン デ リフト,ヨハネス,ヒューベルタス,アントニウス;コイケール,アラール,エールコ;フーケンス−メルテンス,ウィルヘルミナ マルガレータ ヨゼフ;テイレット,ヨハン,ブルーノ,イボン
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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