发明名称 薄膜电晶体及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI489558 申请公布日期 2015.06.21
申请号 TW098112647 申请日期 2009.04.16
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 宫入秀和;大力浩二;惠木勇司;神保安弘;伊佐敏行
分类号 H01L21/336;H01L21/786 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种薄膜电晶体的制造方法,包括如下步骤:在具有绝缘表面的基板上形成闸极电极;在该闸极电极上形成闸极绝缘层,该闸极绝缘层包括氮化矽;将该闸极绝缘层暴露于包含氮的气体所产生的电浆;使用包含半导体材料气体及含氮气体的混合气体在该闸极绝缘层上形成半导体层,其中该含氮气体的浓度随着该半导体层的形成的进行而下降,使得被供应之氮的量逐渐下降;在该半导体层上形成源区及汲区,其中该源区及汲区包含半导体及对该半导体赋予一导电型的杂质;以及在该源区及汲区上分别形成源极电极及汲极电极。
地址 日本