正型光阻材料及利用此之图案形成方法,申请号TW102146425-传众专利搜索

发明名称	正型光阻材料及利用此之图案形成方法
摘要
申请公布号	TWI489211	申请公布日期	2015.06.21
申请号	TW102146425	申请日期	2013.12.16
申请人	信越化学工业股份有限公司	发明人	畠山润
分类号	G03F7/039;C08F220/18;C08F212/14;C08F212/32;H01L21/027	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人	周良谋新竹市东大路1段118号10楼;周良吉新竹市东大路1段118号10楼
主权项	一种正型光阻材料，其特征为：以包含羧基及/或酚性羟基之氢原子为酸不安定基所取代的重复单元、与下列通式(1)表示之含有环戊二烯基错合物的重复单元a之重量平均分子量为1,000~500,000之范围的高分子化合物作为基础树脂； (式中，R1为氢原子或甲基，X为单键，M为Fe、Co、Ni、Cr、Ru)。
地址	日本