| 发明名称 |
铜矽合金溅镀靶材及铜矽合金记录层 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI488983 |
申请公布日期 |
2015.06.21 |
| 申请号 |
TW102136310 |
申请日期 |
2013.10.08 |
| 申请人 |
光洋应用材料科技股份有限公司 |
发明人 |
麦宏全;罗尚贤;廖浩嘉;黄品富;林守贤 |
| 分类号 |
C22C9/10;C23C14/14;C23C14/34 |
主分类号 |
C22C9/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
| 主权项 |
一种铜矽合金溅镀靶材，其系由CuaSibMc合金所组成，其中M系为镍、铬、钼或钛，a系介于0.55至0.93之间，b系介于0.05至0.25之间，c系介于0.02至0.20之间，且a、b及c之总和为1。 |
| 地址 |
台南市安南区工业三路1号 |
