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经营范围
发明名称
坩埚及使用其于矽之纯化之方法
摘要
申请公布号
TWI488818
申请公布日期
2015.06.21
申请号
TW102122302
申请日期
2013.06.24
申请人
希利柯尔材料股份有限公司
发明人
特伦娜 亚连;艾佛瑞 克里斯汀
分类号
C03B20/00;C01B33/037
主分类号
C03B20/00
代理机构
代理人
杨长峯 新北市中和区中正路928号5楼;李国光 新北市中和区中正路928号5楼;张仲谦 新北市中和区中正路928号5楼
主权项
一种用于容纳熔融矽材料的坩埚,其包含:至少一耐火材料,具有界定用于接收一熔融矽材料的内侧之至少一内表面,其中该至少一耐火材料包含氧化铝;一衬里,系设置于该内表面上使该衬里在该内侧中接触该熔融矽材料;该衬里包含胶体氧化铝,其中该衬里具有厚度介于2公厘及10公厘之间,包含2公厘及10公厘,其中该衬里系避免或减少硼及磷中至少一自该至少一耐火材料扩散至容纳于该内侧中之该熔融矽材料。
地址
美国
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