离子轰击装置及利用该装置之基材表面洁净方法

主权项

一种离子轰击装置，其特征为，系用来将基材的表面加以洁净之离子轰击装置，具备：真空腔室，具有内壁面，该内壁面包围容纳前述基材之空间；至少一个电极，设于前述真空腔室的内壁面，且放出电子；复数个阳极，接受来自前述电极的电子，且各阳极配置成隔着前述基材而与前述电极相向；及复数个放电电源，对应于前述各阳极；前述各放电电源，系与前述真空腔室绝缘，对于与该放电电源对应之阳极供给可彼此独立设定之电流或电压，藉此使该阳极与前述电极之间产生辉光放电。