发明名称 薄膜电晶体、其制造方法及显示装置
摘要
申请公布号 TWI489634 申请公布日期 2015.06.21
申请号 TW101119539 申请日期 2012.05.31
申请人 东芝股份有限公司 发明人 中野慎太郎;上田知正;三浦健太郎;齐藤信美;阪野龙则;山口一
分类号 H01L29/786;G02F1/1368 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种薄膜电晶体,包含:基材;闸极电极,设置在一部分的该基材上;第一绝缘膜,覆盖该闸极电极;氧化物半导体膜,经由该第一绝缘膜设置在该闸极电极上;第二绝缘膜,设置在一部分的该氧化物半导体膜上;以及源极电极及汲极电极,将该源极电极连接至该氧化物半导体膜的第一部位,该第一部位未以该第二绝缘膜覆盖,将该汲极电极连接至该氧化物半导体膜的第二部位,该第二部位未以该第二绝缘膜覆盖,该氧化物半导体膜包括氧化物半导体,该氧化物半导体包括In、Ga、以及Zn之至少一元素,且包含在该第一绝缘膜中的氢浓度不少于5×1020atm/cm3,且包含在该第二绝缘膜中的氢浓度不多于1019atm/cm3。
地址 日本