发明名称 合成之非晶质二氧化矽粉末及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI488811 申请公布日期 2015.06.21
申请号 TW100100198 申请日期 2011.01.04
申请人 三菱综合材料股份有限公司 发明人 植田稔晃
分类号 C01B33/18;C01B33/158 主分类号 C01B33/18
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种合成之非晶质二氧化矽粉末,其系将已造粒之二氧化矽粉末以1200~1450℃之温度锻烧,并将藉由热电浆之球状化装置之高周波输出(W)作为A、前述二氧化矽粉末之供给速度(kg/hr)作为B时,前述高周波输出A以90~120kW之条件,前述二氧化矽粉末之供给速度B以3.5~11.5kg/hr,且将前述高周波输出A及前述二氧化矽粉末之供给速度B以A/B(Whr/kg)之值调整成为1.0×104以上之方式来将前述已锻烧之二氧化矽粉末予以球状化,将前述已球状化之二氧化矽粉末在超纯水中予以超音波洗净,并重复进行前述超纯水之过滤及超音波洗净直到前述超纯水中的前述球状化二氧化矽粉末之微粉没有为止,以除去附着于前述球状化二氧化矽粉末表面之微粉后,将前述已洗净之球状化二氧化矽粉末藉由氮或氩一边以1~20L/min之流量流通,一边以100℃~400℃之温度保持3~48小时来乾燥而得到平均粒径D50为10~2000μm之合成之非晶质二氧化矽粉末;且其为将BET比表面积除以由平均粒径D50所计算出之理论比表面积之值为1.00~1.35、真密度为2.10~2.20g/cm3、粒子内空间率为0~0.05、圆形度为0.75~1.00及未熔解率为0.00~0.25,碳浓度未满2ppm或氯浓度未满2ppm之任何一方,或满足其双方。
地址 日本