发明名称 |
BAIN A MORPHOLINE ET PROCEDE POUR LE DEPOT CHIMIQUE D'UNE COUCHE. |
摘要 |
L'invention se rapporte à un bain chimique pour le dépôt d'une couche à base au moins de métal et de soufre. Elle se rapporte également à un procédé pour le dépôt d'une telle couche. Ce bain comprend en solution : - un sel métallique comportant un métal choisi parmi au moins un des éléments des groupes IIB et IIIA du tableau périodique ; et - un précurseur de soufre. Le bain comporte en outre un composé de type morpholine. |
申请公布号 |
FR3014909(A1) |
申请公布日期 |
2015.06.19 |
申请号 |
FR20130062539 |
申请日期 |
2013.12.12 |
申请人 |
ELECTRICITE DE FRANCE;CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE - CNRS - |
发明人 |
HILDEBRANDT THIBAUD;NAGHAVI NEGAR;LOONES NICOLAS;SCHNEIDER NATHANAELLE |
分类号 |
C23C18/12;H01L31/0216 |
主分类号 |
C23C18/12 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|