| 摘要 |
<p>Substrat aus einem Siliciumnitrid-Sinterkörper, für eine Leiterplatte, das im Wesentlichen aus Siliciumnitrid-Körnern und Korngrenzen besteht, wobei der Sinterkörper eine Oberflächentextur mit einer durchschnittlichen Mittellinien-Oberflächenrauigkeit Ra von 0,2–5μm aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Korngrenzen auf der Oberfläche abgestrahlt sind, wobei der Flächenanteil der Siliciumnitrid-Körner 70% oder mehr des gesamten Flächenanteils der Siliciumnitrid-Körner und Korngrenzen beträgt, und der Abstand L zwischen dem höchsten Gipfel von auf einer Oberfläche freiliegenden Siliciumnitrid-Körnern und dem tiefsten Boden von Siliciumnitrid-Körnern oder Korngrenzen 1,5–15μm beträgt.</p> |
