高性能の正荷電複合膜及びそれらをナノろ過プロセスに用いる使用

摘要

本発明は、スルホン化ポリマーに基づく基材層（Ｓ）及び前記基材の上にある正荷電膜層（Ｆ）を含む正荷電ナノろ過（ＮＦ）膜、並びにそれらの製造方法に関する。更に、本発明は、前記複合膜を使用するナノろ過プロセスに関する。