Anordnung und Verfahren zur Charakterisierung von Photolithographie-Masken

摘要

Die vorliegenden Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung von Photolithographie-Masken, wobei die zu charakterisierende Maske (1, 1a) in einer Abbildungsvorrichtung (20) mit einer optischen Achse zur Abbildung von an der zu charakterisierenden Maske vorhandenen Strukturen angeordnet und abgebildet wird, wobei aus einer oder mehreren Abbildungen der zu charakterisierenden Maske die Fokuspositionen der zu charakterisierenden Maske in Richtung der optischen Achse der Abbildungsvorrichtung örtlich verteilt über der zu charakterisierenden Maske zur Ermittlung der Durchbiegung der Maske ermittelt werden. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Verwendung von Photolithographie-Masken sowie zur Herstellung von Photolithographie-Masken und ein Softwareprogrammprodukt, welches das Verfahren zur Charakterisierung von Photolithographie-Masken implementiert. Ferner ist Gegenstand der vorliegenden Erfindung eine entsprechende Anordnung zur Charakterisierung von Photolithographie-Masken.