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<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (400) zum Korrelieren von zumindest zwei Abbildungen (500, 600, 650) einer photolithographischen Maske (200, 300, 510), die zumindest teilweise überlappen, wobei die Vorrichtung (400) eine Korrelationseinheit (485) aufweist, die ausgebildet ist, um zumindest eine zufällige in den zumindest zwei Abbildungen vorhandene Variation (540, 550, 560, 570) von zumindest einem Strukturelement (220, 390, 520) der photolithographischen Maske (200, 300, 510) zur Korrelation der zumindest zwei Abbildungen (550, 600, 650) zu verwenden.</p> |
