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<p>Eine Plasmaquelle (1) umfasst eine planare Spule (2) mit mehreren elektrisch parallel angeordneten Armen (10a, 10b, 10c), die sich ausgehend von einem gemeinsamen Zentrum (12) zu jeweils einem peripheren Hochfrequenz-Leistungs-Einspeisepunkt (3a, 3b, 3c) erstrecken, und eine Hochfrequenz-Erzeugungseinrichtung (16a, 16b, 16c) eingerichtet zur Bereitstellung von Hochfrequenz-Leistung an den Hochfrequenz-Leistungs-Einspeisepunkten (3a, 3b, 3c), derart dass Phasendifferenzen zwischen den Armen (10a, 10b, 10c) vorgesehen sind, welche das Zentrum (12) der planaren Spule (2) zumindest annähernd auf Massepotential legt.</p> |
