| 摘要 |
<p>센서 제조 방법, 이 방법은 제1 패터닝 공정을 이용하여 베이스 기판(32) 상에 바이어스 라인(42)의 패턴을 형성하는 단계; 제2 패터닝 공정을 이용하여, 투명 전극(41)의 패턴, 포토다이오드(40)의 패턴, 수신 전극(39)의 패턴, 소스 전극(33)의 패턴, 및 드레인 전극(34)의 패턴, 데이터 라인의 패턴 및 오믹층(35)을 형성하는 단계; 제3 패터닝 공정을 이용하여, 활성층(36)의 패턴, 제1 패시베이션층(43)의 패턴, 게이트 전극(38)의 패턴, 및 게이트 라인의 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 제조 공정들에서 사용되는 마스크의 수뿐만 아니라 생산 비용을 감소시키고 생산 공정을 단순화하여, 생산 능력과 수율을 크게 향상시킨다.</p> |
