发明名称 Ausbildung von Spacern in einer Solarzelle unter Anwendung der Sauerstoffionenimplantation
摘要 Offengelegt wird eine Solarzelle (200). Die Solarzelle (200) verfügt über eine Vorderseite (202), die unter normalen Betriebsbedingungen der Sonne zugewandt ist, sowie über eine der Sonne abgewandte Rückseite (204). Die Solarzelle umfasst ein Silikonsubstrat (210), eine erste Polysilikonschicht mit einem Bereich (227) dotierten Polysilikons auf der Rückseite des Substrats (210). Die Solarzelle umfasst zudem eine zweite Polysilikonschicht mit einem zweiten Bereich (229) dotierten Polysilikons auf der Rückseite des Silikonsubstrats (210). Die zweite Polysilikonschicht bedeckt zumindest teilweise den Bereich des dotierten Polysilikons. Die Solarzelle (200) umfasst zudem einen resistiven Bereich (224), der in der ersten Polysilikonschicht angeordnet ist. Der resistive Bereich (224) erstreckt sich von einem Rand des zweiten Bereiches (229) dotierten Polysilikons. Der resistive Bereich (224) kann durch Innenimplantation von Sauerstoff in die erste Polysilikonschicht ausgebildet werden.
申请公布号 DE112012006953(T5) 申请公布日期 2015.06.18
申请号 DE20121106953T 申请日期 2012.12.19
申请人 SUNPOWER CORPORATION 发明人 RIM, SEUNG;SMITH, DAVID D.
分类号 H01L31/00;H01L31/04;H01L31/18 主分类号 H01L31/00
代理机构 代理人
主权项
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