| 发明名称 | 液体处理装置、液体处理方法以及等离子体处理液 | ||
| 摘要 | 本申请提供一种能够效率良好地产生等离子体且短时间地进行液体处理的液体处理装置、液体处理方法及其被进行等离子体处理后的液体。本申请的液体处理装置具备：第一电极；第二电极，其被配置在被处理液中；绝缘体，其被设置为隔着空间来包围所述第一电极，并且在与所述被处理液接触的位置具有开口部；电源，其在所述第一电极与所述第二电极之间施加电压，以在所述绝缘体的所述开口部附近产生等离子体；和供给装置，其在所述电源施加电压之前向所述空间供给液体。 | ||
| 申请公布号 | CN104718163A | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201480002417.X | 申请日期 | 2014.05.12 |
| 申请人 | 松下知识产权经营株式会社 | 发明人 | 藤金正树;小野寺真里;熊谷裕典;今井伸一 |
| 分类号 | C02F1/48(2006.01)I;A01G31/00(2006.01)I;B01J19/08(2006.01)I;F24F6/02(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I | 主分类号 | C02F1/48(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 齐秀凤 |
| 主权项 | 一种液体处理装置，具备：第一电极；第二电极，其被配置在被处理液中；绝缘体，其被设置为隔着空间来包围所述第一电极，并且在与所述被处理液接触的位置具有开口部；电源，其在所述第一电极与所述第二电极之间施加电压，以在所述绝缘体的所述开口部附近产生等离子体；和供给装置，其在所述电源施加电压之前向所述空间供给液体。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||