| 发明名称 | 键开关装置和键盘 | ||
| 摘要 | 一种键开关装置(100-104)，所述键开关装置包括：待被下压的操作构件(10)；开关(14d)，所述开关布置在所述操作构件下方；反作用力产生构件(15)，所述反作用力产生构件设置在所述操作构件和所述开关之间，通过所述操作构件的下压实施弹性压曲变形，根据所述弹性压曲变形对所述操作构件产生反作用力；和下压构件(16)，所述下压构件设置在所述操作构件和所述开关之间，并且下压所述开关；其中，所述反作用力产生构件包括支撑件(15e)，所述支撑件支撑所述下压构件。 | ||
| 申请公布号 | CN104715953A | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201410767031.X | 申请日期 | 2014.12.12 |
| 申请人 | 富士通电子零件有限公司 | 发明人 | 西野武志;中村修二;竹前安纪彦;小池保 |
| 分类号 | H01H13/705(2006.01)I | 主分类号 | H01H13/705(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 胡海滔 |
| 主权项 | 一种键开关装置(100‑104)，其特征在于，所述键开关装置包括：待被下压的操作构件(10)；开关(14d)，所述开关布置在所述操作构件下方；反作用力产生构件(15)，所述反作用力产生构件设置在所述操作构件和所述开关之间，通过所述操作构件的下压实施弹性压曲变形，根据所述弹性压曲变形对所述操作构件产生反作用力；和下压构件(16)，所述下压构件设置在所述操作构件和所述开关之间，并且下压所述开关；其中，所述反作用力产生构件包括支撑件(15e)，所述支撑件支撑所述下压构件。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||