基板支撑装置及基板处理装置

摘要

本发明涉及基板支撑装置及基板处理装置，包括：腔室，形成处理空间；气体喷射器，在所述腔室的内部供给处理气体；及基板支撑台，配置在所述腔室的内部支撑基板，所述基板支撑台，具有通过分别的流通渠道，向所述基板的上部边缘及下部边缘供给净化气体的流通渠道，可使净化气体在基板的边缘位置领域均匀的供给。

主权项

一种基板支撑装置，其特征在于，包括：基板支撑体，安装基板；及保护环，设置在所述基板支撑体上，形成为了在高于所述基板支撑体的上面的位置向所述基板喷射气体的流通渠道。