发明名称 活性硫黄化合物を含むウエハーの裏面被膜
摘要 <p>A wafer backside coating compositions comprises an epoxy, a resin with ethylenic unsaturation, and a reactive sulfur compound and is effective to reduce delamination during reflow operations.</p>
申请公布号 JP5736041(B2) 申请公布日期 2015.06.17
申请号 JP20130514232 申请日期 2011.06.03
申请人 发明人
分类号 C09J163/00;C09J11/06;C09J133/00;C09J163/02;C09J163/04;C09J183/08;C09J201/02;H01L21/52 主分类号 C09J163/00
代理机构 代理人
主权项
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