发明名称 一种匀胶铬版制造工艺
摘要 本发明匀胶铬版制造工艺包括以下步骤:镀膜,提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版;切割,根据所要形成的匀胶铬版的尺寸,切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版;清洗,清洁切割后的小尺寸的铬膜基版,去除表面的灰尘、污渍;涂胶,在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶,由于采用先镀膜后切割的方式,玻璃板数量远小于相对切割后数量,可以利用现有镀膜机快速高效地进行镀膜,而且可利用现有镀膜设备,无需额外改进,成本更低。
申请公布号 CN103235481B 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN201310104872.8 申请日期 2013.03.28
申请人 深圳市科利德光电材料股份有限公司 发明人 石孟阳;熊波;谢庆丰;庄奎乾
分类号 G03F1/60(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I 主分类号 G03F1/60(2012.01)I
代理机构 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人 潘中毅
主权项 一种匀胶铬版制造工艺,包括以下步骤:镀膜,提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版;切割,根据所要形成的匀胶铬版的尺寸,切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版;清洗,清洁切割后的小尺寸的铬膜基版,去除表面的灰尘、污渍,包括:无尘布擦洗,将切割后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3%~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液,擦洗表面10分钟;倒角磨边处理,将擦洗后的小尺寸的铬膜基版的边角打磨钝化、边缘打磨平直;浸泡,将倒角磨边处理之后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液中,浸泡10分钟;超声波清洗;及清洗机清洗,在清洗机中放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液对小尺寸的铬膜基版进行清洗;以及涂胶,在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶。
地址 518000 广东省深圳市南山区凯虹工业区金龙工业城64栋东六层
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