一种全抛釉生产工艺及所制备的产品

摘要

本发明提供一种全抛釉生产工艺，包括如下步骤：（1）制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂60～70%、Al₂O₃15～25%、Fe₂O₃1～1.5%、TiO₂0.1～0.3%、CaO0.6～0.7%、MgO0.8～1.0%、K₂O2.5～3%、Na₂O2～3%，烧失量IL为5～6%；（2）制备化妆土料。（3）制备面釉料。（4）在步骤（1）的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面丝印或喷墨形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；（5）在步骤（4）后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜。本发明制备的产品具有釉面透感强、亮度高、防污好等特点。

主权项

一种全抛釉生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 60～70％、Al₂O₃ 15～25％、Fe₂O₃ 1～1.5％、TiO₂ 0.1～0.3％、CaO 0.6～0.7％、MgO 0.8～1.0％、K₂O 2.5～3％、Na₂O 2～3％，烧失量IL为5～6％，各成分的百分比为质量百分比；(2)制备化妆土料：称取化妆土原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述化妆土原料的主要化学成分为：SiO₂ 65～75％、Al₂O₃ 15～24％、Fe₂O₃ 0.1～0.2％、TiO₂ 0.02～0.04％、CaO 2.5～3.0％、MgO 0.1～0.2％、K₂O 1.5～2.0％、Na₂O 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；(3)制备面釉料：称取面釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述面釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 45～50％、Al₂O₃ 12～22％、Fe₂O₃ 0.1～0.15％、TiO₂0.02～0.04％、CaO 15～20％、MgO 3.5～4.5％、K₂O 0.4～0.5％、Na₂O 2.0～2.5％，烧失量IL为10～11％，各成分的百分比为质量百分比；(4)在步骤(1)的坯体表面淋化妆土料形成化妆土层、在化妆土层上表面丝印或喷墨形成花釉层、之后在花釉层上表面淋面釉料形成面釉层；(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。