| 发明名称 | 单片接触系统和形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种具有单片结构的断路器和一种制作方法。所述单片结构包括具有铜的臂部分和具有复合材料的触点部分。所述复合材料具有金属基体和设置在所述金属基体中的第二相。制作所述单片结构的方法包括将第一粉末引入至模具的第一区域中，将第二粉末引入至所述模具的第二区域中，以及将所述第一粉末和所述第二粉末固结在一起。所述模具的第一区域对应于触点部分，并且所述第二区域对应于所述断路器的单片结构的臂部分。 | ||
| 申请公布号 | CN104715940A | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201410781888.7 | 申请日期 | 2014.12.16 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | M.纳亚克;N.卡卡达;S.蒂梅高达;M.H.萨麦亚;J.纳拉亚南;L.Y.雅各布斯 |
| 分类号 | H01H1/021(2006.01)I;H01H9/00(2006.01)I;H01H11/04(2006.01)I;H01H11/00(2006.01)I;B22F7/06(2006.01)I | 主分类号 | H01H1/021(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;肖日松 |
| 主权项 | 一种断路器，所述断路器包括：单片结构，所述单片结构包括包括铜的臂部分，以及包括复合材料的触点部分，所述复合材料包括金属基体和设置在所述基体中的第二相。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||