| 发明名称 | 柔性装置及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种柔性装置及其制作方法，该方法包括：在刚性基底上形成牺牲层；在所述牺牲层之上形成反射层；在所述反射层的上方制作柔性显示器件；使用激光照射所述牺牲层，将刚性基底剥离。本发明中，由于在牺牲层上方还形成有反射层，能够在进行剥离时，将照射的激光反射回牺牲层，这样就增加了牺牲层所吸收的激光的能量。从而能够降低剥离过程中所需要使用的激光的能量。 | ||
| 申请公布号 | CN104716081A | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201510138382.9 | 申请日期 | 2015.03.26 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘陆;谢明哲 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种柔性装置的制作方法，其特征在于，包括：在刚性基底上形成牺牲层；在至少一部分所述牺牲层之上形成反射层；在所述牺牲层和所述反射层的上方制作柔性基底层；使用激光照射所述牺牲层，将刚性基底剥离。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||