曝光方法、曝光装置以及器件制造方法

摘要

提供一种曝光方法、曝光装置以及器件制造方法。曝光方法为：在包含投影光学系统的投影区域的基板的至少一部分上形成浸渍区域，通过投影光学系统和基板间的液体将掩模的图案的像投影到基板上。计测掩模的图案分布(S1)，使基板曝光时，根据入射到投影光学系统与基板间的液体的曝光光的分布进行调整，使期望的图案的像投影到基板上(S4～S6)。不受掩模图案分布的影响，能够以高精确度使基板图案曝光。

主权项

一种曝光装置，经过液体将规定的图案的像投影在基板上从而对基板进行曝光，其特征在于，具有：投影光学系统，用于将上述图案的像投影到基板上，液体供给机构，为了在上述投影光学系统和上述基板上的一部分之间形成液浸区域，向上述投影光学系统和上述基板上的一部分之间供给液体，液体回收机构，回收上述投影光学系统和上述基板之间的液体，以及温度传感器，能够移动地设置在上述投影光学系统的像面附近，用于计测在上述投影光学系统和上述基板上的一部分之间形成上述液浸区域的液体的温度，上述液体供给机构从多个位置分别供给温度不同的液体。