一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层的制备方法

摘要

本发明涉及一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层的制备方法，该方法以TiB₂陶瓷靶和金属Ni靶为原料，采用磁控溅射技术进行制备，所制备的TiB₂/Ni由金属Ni和TiB₂原位复合而成，具有多层金属Ni层与TiB₂陶瓷层相互叠加而成的纳米层状结构，其中每层的厚度为6-60nm，金属Ni含量为5-30at.％；金属Ni层与TiB₂陶瓷层的层数为20-100000层，每层金属Ni层的厚度为1-10nm，每层TiB₂层的厚度为5-50nm，具有较好的韧性，且该方法制备成本低，而且操作简单、制备周期短、重复性强、可用于大规模工业生产。

主权项

一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层的制备方法，其特征在于以TiB₂陶瓷靶和金属Ni靶为原料，采用磁控溅射技术进行制备，制备的TiB₂/Ni涂层是由金属Ni和TiB₂原位复合而成，具有多层金属Ni层与TiB₂陶瓷层相互叠加而成的纳米层状结构，其中每层的厚度为6‑60nm，金属Ni含量为5‑30at.％，具体步骤为：a)安装靶材和基板；b)抽真空和基板加热：背底真空达低于5×10^‑5Pa，基体的加热温度范围为室温‑500℃，并保温20‑30min；c)通入惰性气体，设置电源与基板参数，起辉，预溅射后，溅射沉积，其中TiB₂陶瓷靶电源参数为：中频50‑200HKZ、功率50‑500W、占空比60‑90％；Ni金属靶电源参数为：直流、功率0‑20W；基板参数为：偏压‑100‑0V、自转10‑1000转/h、温度室温‑500℃；预溅射8～15min，打开样品挡板，正式溅射沉积，沉积时间：10min‑10h；d)沉积结束，关闭电、气、水路，取样。